米国科学財団（National Science Foundation: NSF）と国勢調査局（U.S. Census Bureau）は、「企業研究開発及びイノベーション調査（Business R&D and Innovation Survey: BRDIS）」を元に、米国に拠点を置く企業に対して、2008年における様々な種別の知的財産権保護の重要性について調査を行った（具体的には、企業は、特許（utility patents）、意匠（design patents）、商標、著作権、企業秘密、マスクワーク（mask works：半導体製品向けの著作権保護）について、「非常に重要」「重要」「ある程度重要」「重要でない」のいずれかを回答する）。今回発表された調査報告書は、これらの結果について、業界別、知的財産権の種別、研究開発活動を伴う企業と伴わない企業、などについてまとめている。それによれば、全体的には、商標や企業秘密、著作権を「重要な知的財産権保護種別」と回答する企業の方が、特許やマスクワークを「重要」と回答する企業よりも多かった。また、研究開発活動を伴う企業と伴わない企業の間では、いずれの知的財産権種別においても、その重要性に大きな違いが見られたという。
NSF “Business Use of Intellectual Property Protection Documented in NSF Survey” (February 2012)