国防総省（Department of Defense）は9月6日、戦略的で信頼できる耐放射線強化されたマイクロエレクトロニクスを生産もしくは入手することを目的として、ハネウェル社（Honeywell）（ミネソタ州）に2,580万ドルのアワードを発表した。国防生産法投資（Defense Production Act Investment: DPAI）によるアワードは、放射線環境での運用における国防総省の重要なコンポーネントの確実な能力を提供するものである。この取り組みは、国内生産を拡大し、サプライチェーンの対応力を高めるという2024年国防産業戦略（2024 National Defense Industrial Strategy）を支援する。資金は、国防マイクロエレクトロニクス活動（Defense Microelectronics Activity）として認定された製造プロセスを通じて戦略的な耐放射線強化マイクロエレクトロニクスの製造に使用され、ミネソタ州にあるハネウェル社のマイクロエレクトロニクス・ファウンドリーにおける90ナノメートル（nm）サイズの技術開発を支援する。DPAI担当局は2024年度開始以来、50件以上のプログラム・アワード（合計5億1,440万ドル）を発表している。
